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Vergleich von positivem und negativem Fotolack

EIN Fotolack oder Fotolack ist ein Material, das unter dem Einfluss von UV-Licht Änderungen:

• Ein Negativresist (NR) härtet durch Licht aus. Die Teile, die sich hinter der Belichtungsmaske befanden, werden durch die Entwicklerflüssigkeit weggewaschen.
• Im Gegensatz dazu wird ein Positivresist (PR) unter dem Einfluss von Licht löslich. Die abgedeckten Teile bleiben nach dem Spülen erhalten.