WikiDer > Изотропное травление
 | эта статья нужны дополнительные цитаты для проверка. (Декабрь 2009 г.) (Узнайте, как и когда удалить этот шаблон сообщения) |
Изотропное травление это метод, обычно используемый в полупроводники для удаления материала с подложки с помощью химического процесса с использованием травить субстанция. Травитель может быть жидким, газовым или жидким. плазма-фаз,[1] хотя жидкие травители, такие как забуференная фтористоводородная кислота (BHF) для диоксид кремния Чаще используются травление. В отличие от анизотропного травления, изотропное травление не травит в одном направлении, а скорее травит в нескольких направлениях внутри подложки. Поэтому любой горизонтальный компонент направления травления может привести к подрезанию участков с рисунком и значительным изменениям характеристик устройства. Изотропное травление может произойти неизбежно или может быть желательным по технологическим причинам.
использованная литература
- ^ Чанг, Флой I .; Ага, Ричард; Лин, Гизела; Чу, Патрик Б.; Хоффман, Эрик Дж .; Kruglick, Ezekiel J .; Пистер, Кристофер С. Дж .; Хехт, Майкл Х. (13 сентября 1995 г.). «Газофазная микрообработка кремния дифторидом ксенона». Микроэлектронные структуры и микроэлектромеханические устройства для оптической обработки и мультимедийных приложений. ШПИОН. 2641: 117–129. Bibcode:1995SPIE.2641..117C. Дои:10.1117/12.220933.