WikiDer > Питер Трефонас

Peter Trefonas
Питер Трефонас
Родившийся1958 (61–62 года)
Миннеаполис, Миннесота, НАС.
НациональностьСоединенные Штаты
Альма-матерУниверситет Нового Орлеана, Университет Висконсин-Мэдисон
НаградыСАУ Героев химии 2014, Медаль Перкина 2016
Научная карьера
ПоляЛитография
УчрежденияDow Chemical
ДокторантРоберт Уэст
Внешнее видео
значок видео «Питер Трефонас: Химия играет ключевую роль в процессе литографии», Микро / нано литография, SPIE
значок видео «Dow Chemical - Dow AR ™ - антибликовые покрытия с органическим дном Fast Etch», ACS

Питер Трефонас (1958 г.р.) - научный сотрудник DuPont (старший научный сотрудник) в DuPont, где он работает над развитием электронные материалы. Он известен инновациями в химия фотолитографии, особенно развитие антибликовые покрытия и полимер фоторезисты которые используются для создания схема для компьютерных чипов. Эта работа способствовала формированию рисунка более мелких деталей в процессе литографии, увеличивая миниатюризацию и скорость микропроцессора.[2][3]

Образование

Питер Трефонас - сын Луи Марко Трефонаса, также химика, и Гейл Темз.[4] Он был вдохновлен Звездный путь и сочинения Айзек Азимов, а дома создал собственную химическую лабораторию.[2]Трефонас посетил Университет Нового Орлеана, получив степень бакалавра химии в 1980 году.[1]

Будучи студентом, Трефонас зарабатывал деньги, сочиняя ранние компьютерные игры для персональные компьютеры. К ним относятся Червь, первая версия Змея быть написанным для персональный компьютер, и клон Суетиться. Оба были основаны на Блокада аркадная игра.[5][6] Трефонас также написал игру на основе Подземелья и драконы.[7]

Трефонас учился в Университет Висконсин-Мэдисон с Роберт Уэст,[1] получение докторской степени. по неорганической химии в конце 1984 г.[2] Трефонас заинтересовался электронные материалы после работы с West и производителями микросхем из IBM для создания кремнийорганических двухслойных фоторезистов.[2] Тема его диссертации была Синтез, свойства и химический состав высокополимеров органосилана и германа. (1985).[8]

Карьера

Трефонас присоединился Электронные материалы MEMC в конце 1984 года. В 1986 году он и другие соучредители Aspect Systems Inc., используя технологию фотолитографии, приобретенную у MEMC.[2] Трефонас работал в компании «Аспект» с 1986 по 1989 год. Затем, в результате ряда приобретений компании, он перешел в компанию Shipley (1990-2000 гг.), Ром и Хаас (1997-2008), The Dow Chemical Company (2008-2019) и, наконец, DuPont (2019-настоящее время).[9][10][11][2]

Трефонас опубликовал не менее 127 журнальных статей и технических публикаций. Он получил 105 американских патентов и имеет более 25 заявок на патент на рассмотрении.[12][13]

Исследование

На протяжении всей своей карьеры Трефонас уделял особое внимание материаловедение и химия фотолитографии. Понимая химию фоторезистов, используемых в литографии, он смог разработать антибликовые покрытия и полимерные фоторезисты, которые поддерживают тонко настроенное травление, используемое при производстве интегральные схемы. Эти материалы и методы позволяют разместить больше схем в данной области.[13][3] Со временем литографические технологии развивались, чтобы позволить литографии использовать меньшие длины волн света. Trefonas помог преодолеть ряд очевидных ограничений достижимых размеров, разработав фоторезисты, которые чувствительны к ультрафиолетовому свету 436 нм и 365 нм и имеют глубину 193 нм.[14][15]

В 1989 году Трефонас и другие сотрудники Aspect Systems Inc. сообщили об обширных исследованиях полифункциональных светочувствительных групп в позитивных фоторезистах. Они учили диазонафтохинон (DNQ), химическое соединение, используемое для ингибирования растворения новолачной смолы при создании фотошаблонов. Они математически смоделировали эффекты, предсказали возможные оптимизации и экспериментально подтвердили свои предсказания. Они обнаружили, что химическое связывание вместе трех молекул DNQ для создания новой молекулы, содержащей три ингибитора растворения в одной молекуле, привело к лучшему контрасту характеристик с лучшим разрешением и миниатюризацией.[16] Эти модифицированные DNQ стали известны как «полифункциональные фотоактивные компоненты» (PAC). Этот подход, который они назвали полифотолизом,[17][18][19]также упоминается как «Эффект Трефонаса».[14][20]Технология трифункциональных диазонафтохиноновых ПАУ стала отраслевым стандартом для позитивных фоторезистов.[20] Их механизм был выяснен и связан с кооперативным поведением каждой из трех единиц DNQ в новой трехфункциональной молекуле ингибитора растворения. Фенольные струны из акцепторных групп PAC, которые оторваны от их якорей, могут повторно подключаться к живым струнам, заменяя две более короткие поляризованные струны одной более длинной поляризованной струной.[21]

Trefonas также является лидером в разработке органического антибликового покрытия для дна с быстрым травлением (BARC).[22] Технология BARC сводит к минимуму отражение света от подложки при отображении фоторезиста. Свет, который используется для формирования скрытого изображения в фоторезистивной пленке, может отражаться от подложки и ухудшать контрастность и форму профиля. Управление помехами от отраженного света приводит к формированию более резкого рисунка с меньшей изменчивостью и большим окном обработки.[23]

В 2014 году Трефонас и другие сотрудники Dow были названы Герои химии посредством Американское химическое общество, для разработки антибликовых покрытий с органическим дном Fast Etch (BARC).[22] В 2016 году Трефонас был отмечен журналом The SCI. Медаль Перкина за выдающийся вклад в промышленную химию. В 2018 году Трефонас был назван членом SPIE за «достижения в области дизайна для производства и компактного моделирования». Петер Трефонас был избран в Национальная инженерная академия в 2018 году за «изобретение фоторезистивных материалов и методов микролитографии, лежащих в основе нескольких поколений микроэлектроники». Компания DuPont в 2019 году отметила Trefonas своим высшим признанием, Медаль Лавуазьеза «коммерческие электронные химикаты, которые позволили клиентам производить интегральные схемы с более высокой плотностью и более высокими скоростями».

Награды и отличия

Рекомендации

  1. ^ а б c d "Медаль Перкина SCI". Институт истории науки. 2016-05-31. Получено 24 марта 2018.
  2. ^ а б c d е ж Райш, Марк С. (12 сентября 2016 г.). «C&EN беседует с Питером Трефонасом, новатором в фотолитографии». Новости химии и машиностроения. 94 (36): 27–28. Note Correction, опубликованный в октябре: «Сентябрь. 12, стр. 27: Очерк, описывающий Питера Трефонаса из Dow Chemical, неправильно идентифицировал, когда Dow приобрела Rohm and Haas. Приобретение произошло в 2009 году, а не в 2001 году ».
  3. ^ а б "Медаль Перкина". SCI. Получено 12 апреля 2017.
  4. ^ "Доктор Луи Марко Трефонас". Орландо Сентинел. Получено 20 апреля 2017.
  5. ^ Джерард Гоггин (2010), Глобальные мобильные СМИ, Тейлор и Фрэнсис, п. 101, ISBN 978-0-415-46917-3, получено 2011-04-07
  6. ^ "Ретро-уголок:" Змея'". Цифровой шпион. 2011-04-09. Получено 12 апреля 2017.
  7. ^ "Журнал CLOAD" (PDF). Gametronik. Май 1980 г.
  8. ^ Трефонас, Питер (1985). Синтез, свойства и химия высокополимеров органосилана и германа.. UW Мэдисон. [издатель не указан]. Получено 11 апреля 2017.
  9. ^ «Выпускники: Питер Трефонас». Университет Нового Орлеана. Получено 12 апреля 2017.
  10. ^ Роча, Юан; Daily, Мэтт (10 июля 2008 г.). "Dow Chemical купит Rohm and Haas за 15,3 млрд долларов". Рейтер. Получено 12 апреля 2017.
  11. ^ Кампой, Ана (2 апреля 2009 г.). "Dow Chemical закрывает сделку с Rohm & Haas". Журнал "Уолл Стрит. Получено 20 апреля 2017.
  12. ^ а б SPIE (22 августа 2016 г.). «Питер Трефонас: Химия - ключевой игрок в процессе литографии». Отдел новостей SPIE. Дои:10.1117/2.201608.02.
  13. ^ а б c «SCI награждает медалью Перкина Питеру Трефонасу из компании Dow специалистами по химической обработке». Химическая обработка. 10 мая, 2016. Получено 12 апреля 2017.
  14. ^ а б «Питер Трефонас, обладатель медали Перкина 2016 г., заслуги химии в создании информационной эры». Электронные материалы DOW. Получено 26 сентября, 2016.
  15. ^ Трефонас III, Петр; Кузнец, Роберт Ф .; Szmanda, Charles R .; Kavanagh, Роберт Дж .; Адамс, Тимоти Г. (11 июня 1999 г.). «Органические просветляющие покрытия для 193-нм литографии». Proc. SPIE 3678, Достижения в технологии и обработке резиста. Достижения в технологии и обработке резиста XVI. XVI (702): 702. Дои:10.1117/12.350257.
  16. ^ США 5128230 AМайкл К. Темплтон; Энтони Зампини и Питер Трефонас III и др., «Состав фоторезиста, содержащий диазид хинона, использующий смешанный растворитель из этиллактата, анизола и амилацетата», опубликовано 7 июля 1992 г. 
  17. ^ Леви, Р. А. (1989). Микроэлектронные материалы и процессы: [материалы Института перспективных исследований микроэлектронных материалов и процессов НАТО, Il Ciocco, Castelvecchio Pascoli, Италия, 30 июня - 11 июля 1986 г.]. Дордрехт: Kluwer Academic. С. 333–334. ISBN 9780792301479. Получено 12 апреля 2017.
  18. ^ Судзуки, Казуаки; Смит, Брюс В. (2007). Микролитография наука и техника (2-е изд.). Бока-Ратон: CRC Press. п. 130. ISBN 9780824790240. Получено 13 апреля 2017.
  19. ^ Trefonas III, P .; Дэниелс, Б. К. (25 августа 1987 г.). «Новый принцип улучшения изображения в однослойных позитивных фоторезистах». Достижения SPIE в технологии и обработке резиста. IV (771): 194–210.
  20. ^ а б Хан, Ю-Кай; Ян, Чжэнлинь; Райзер, Арност (декабрь 1999 г.). «Механизм действия Trefonas (полифотолиза) в новолак-диазонафтохиноновых резистах». Макромолекулы. 32 (25): 8421–8426. Дои:10.1021 / ma990686j.
  21. ^ Хан, Ю-Кай; Райзер, Арност (11 июня 1999 г.). «Механизм действия Trefonas (полифотолиз) в сопротивлении растворению». Труды SPIE: Достижения в технологии и обработке резиста XVI. Достижения в технологии и обработке резиста XVI. 3678: 360. Дои:10.1117/12.350219. Получено 30 мая 2017.
  22. ^ а б c «Герои химии 2014». ACS Chemistry for Life. Получено 12 апреля 2017.
  23. ^ Кэмерон, Джим (18 ноября 2015 г.). «Университет Лито: DBARC Technology 101». Электронные материалы Dow. Получено 30 мая 2017.
  24. ^ «Национальная инженерная академия избирает 83 члена и 16 иностранных членов». Веб-сайт NAE. Получено 2018-02-17.
  25. ^ «Стипендиаты SPIE 2017». spie.org. Получено 2018-02-17.
  26. ^ «Компания Dow Electronic Materials и Техасский университет A&M выиграли награду Willson от SPIE в 2013 году за лучшую техническую работу». Новости Dow Electronic Materials. Получено 20 марта, 2014.
  27. ^ Трефонас, Питер; Теккерей, Джеймс У .; Сунь, Гуоронг; Чо, Санго; Кларк, Корри; Верхотуров, Станислав В .; Эллер, Майкл Дж .; Ли, Анг; Павия-Сандерс, Адриана; Schweikert, Emile A .; Вули, Карен Л. (16 декабря 2013 г.). «Снизу вверх / сверху вниз, литография с высоким разрешением и высокой пропускной способностью с использованием вертикально собранных полимеров для бутылочек». Журнал микро / нанолитографии, MEMS и MOEMS. 12 (4): 043006. Дои:10.1117 / 1.JMM.12.4.043006. Получено 12 апреля 2017.